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《国语辞典》:次微米计画(次微米计画) 拼音:cì wéi mǐ jì huà
次微米计画指开发小于一微米的半导体制作技术的计画。民国七十九年,为建立完整之半导体产业,引导产业进入次微米时代。经济部委托工研院电子所筹建次微米实验室。正式展开为期五年(西元一九九○至一九九五年)的次微米研发工作如下:(1)建立一座八吋晶圆,Class 0.1(0.3微米)的世界一流水准的实验室,以提供开发次微米制程技术。(2)在一九九五年以前使中华民国具备:a.0.7/0.5微米整合制程技术。b.0.35微米制程模组技术。(3)建立超洁净技术及八吋晶圆量产型技术。(4)建立中华民国极大型积体电路(ULSI)研究发展能力,并对世界IC研究发展的领域有所贡献。